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《核电子学与探测技术》系中国核工业集团公司主管，由中国核工业集团公司北京核仪器厂主办，是中国核学会、中国电子学会所属核电子学与核探测技术分会会刊。本刊为专业学术性刊物，主要刊登核仪器、核电子学、核探测器与测试技术方面的研究成果和论文。读者对象主要为核电子学、核探测技术方面的研究人员及大专院校师生。
本刊一直在核仪器、核电子学与核探测领域保持着较高的声誉和知名度，多年来一直...
BESIII升级中硅像素径迹室位置校准的MC研究
作者： 付婷婷 [1] ; 伍灵慧 [2] ; 张晋 [2] ; 王亮亮 [2] ; 袁野 [2] ; 张瑶 [2] ; 李明非 [1] ; 刘怀民 [2]
摘要： 硅像素径迹室是BESIII升级项目之一，离线软件校准是其离线数据处理系统的重要组成部分，研究过程采用蒙特卡罗方法，将残差法应用于漂移室升级项目中硅像素径迹室的几何位置校准，分别以ladder、芯片为最小探测单元进行研究，结果表明，该方法可有效应用于硅像素径迹室的位置校准。
关键字： 硅像素径迹室 漂移室 校准 残差法 Silicon Pixel Tracker MDC alignment Residual Method